W celu świadczenia usług na najwyższym poziomie stosujemy pliki cookies. Korzystanie z naszej witryny oznacza, że będą one zamieszczane w Państwa urządzeniu. W każdym momencie można dokonać zmiany ustawień Państwa przeglądarki. Zobacz politykę cookies.
Powrót

Uroczystość nadania pierwszych stopni dyplomatycznych z udziałem Ministra Radosława Sikorskiego

28.02.2024

28 lutego br. w gmachu MSZ przy Al. Szucha w Warszawie odbyła się uroczystość nadania pierwszych stopni dyplomatycznych aplikantom i pracownikom MSZ, którzy złożyli egzamin dyplomatyczno-konsularny z pozytywnym wynikiem. Od młodych adeptów ślubowanie odebrał Minister Spraw Zagranicznych Radosław Sikorski.

Uroczystość nadania pierwszych stopni dyplomatycznych z udziałem Ministra Radosława Sikorskiego

Szef polskiej dyplomacji pogratulował tego sukcesu nowym członkom Służby Zagranicznej oraz podkreślił, iż już początek ich służby przypada na czas trudny, kiedy ważą się losy demokratycznego świata i gdzie rola Polski będzie wyjątkowa, m.in. w kontekście planowanego przewodnictwa RP w Radzie Unii Europejskiej.

Wręczając akty mianowania Szef Służby Zagranicznej, Rafał Wiśniewski przypomniał najmłodszym dyplomatom, iż wstąpienie w szeregi zawodowego korpusu dyplomatyczno-konsularnego to zaszczyt i obowiązek służby.

Pierwsze stopnie dyplomatyczne zostały nadane 12 osobom, które złożyły z wynikiem pozytywnym egzamin dyplomatyczno-konsularny. Wśród nich znalazło się 11 absolwentów aplikacji dyplomatyczno-konsularnej oraz pracownik MSZ – absolwentka KSAP. Ceremonię nadania stopnia dyplomatycznego i składania ślubowania poprowadziła zastępca dyrektora Akademii Dyplomatycznej i kierownik aplikacji dyplomatyczno-konsularnej Marta Zielińska-Śliwka.

 

Foto: Barbara Milkowska/MSZ

 

 

Zdjęcia (4)

{"register":{"columns":[]}}